A ureia é um contaminante orgânico na produção de água ultrapura para semicondutores, sua remoção é difícil devido as suas características de não volatilidade, difícil oxidação, caráter não iônico, altamente solúvel em água e baixa massa molar. Nesse trabalho foi estudada a remoção da ureia dissolvida em água através da oxidação do íon hipobromito, formado in situ pela reação de brometo de sódio e hipoclorito de sódio. Na parte experimental foi avaliada a formação do íon hipobromito através da variação do tempo de formação do mesmo, e analisada a remoção de ureia através dos valores de COT (carbono orgânico total), neste caso foram alterados os valores de concentração de hipobromito, concentração de brometo final, tempo de oxidação com a ureia e pH da reação. Foram observadas que, tanto o pH como o tempo de formação de hipobromito não interferem na eficiência de remoção da ureia, ao contrário da concentração de hipobromito e concentração de brometo utilizado. Verificou-se que hipobromito é capaz de remover quase completamente a ureia presente em água quando em ausência de NOM (material orgânico de ocorrência natural). Os melhores resultados obtidos foram com água ultrapura e concentração de 3 mgL-1 de hipobromito.
Autor: Giulia Pieta Perez
Arquivo completo: Avaliação da capacidade de remoção da ureia em água por oxidação com hipobromito
Fonte: Biblioteca PUCRS
